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加氫反應裝置

簡要描述:加氫反應裝置具備反應系統(tǒng),加熱系統(tǒng)和控制系統(tǒng),氣體進料系統(tǒng),液體進料系統(tǒng),反應釜全容積為100毫升,加熱方式為電加熱,在線數(shù)據(jù)采集記錄保存,采集對象:反應釜內部溫度,加熱爐溫度,反應釜內部壓力,攪拌速度,控制進料流量,進氣流量。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-05-23
  • 瀏覽次數(shù):2516
詳情介紹

加氫反應裝置主要參數(shù)及技術說明

反應釜結構:間歇式;釜蓋密封形式:O型圈密封;攪拌密封形式:磁耦合密封;反應釜全容積:100ml;反應釜用才(釜體釜蓋):哈氏合金C276;管閥件316L不銹鋼;用戶操作溫度:200℃;反應釜設計溫度:250℃;用戶操作壓力:30bar;反應釜最高使用壓力:100bar;加熱方式:電加熱;溫度控制:正負1℃以內(物料無強放熱吸熱的情況下);攪拌形式:自吸推進攪拌

裝置整體包括反應單元、加熱單元和控制單元。

反應單元100ml反應釜釜蓋固定,釜體電動升降,釜體電加熱,加熱爐外層預設不銹鋼外殼保溫層,上出料,釜蓋配備2個氣相閥門,1個液相閥,1個安全爆破片,1個機械測壓表,1個壓力傳感器,1個溫度傳感器,1個磁耦合攪拌器,1套氣體質量流量計

加熱單元,加熱采用電加熱,加熱爐包裹反應釜體,靠熱傳導輻射給反應釜內部物料加熱,加熱爐外層預設不銹鋼外殼保溫層。

控制單元,溫度控制:主控物料溫度,反應釜內物料無強放熱吸熱情況下可將物料溫控控制在正負1

攪拌控制:磁耦合攪拌轉速控制范圍200~1000r/min,攪拌轉速控制誤差0~5r/min。升降控制:可控制加熱爐和反應釜釜體勻速上升下降,上下設有光電開關,防止上升下降過多

數(shù)據(jù)采集和保存:反應數(shù)據(jù)可采集記錄保存,包括反應溫度,加熱爐溫度,反應壓力,攪拌轉速,可在線設定加熱時間,攪拌時間

加氫反應裝置

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